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아스플로, 공모주 청약 경쟁률 2818대1···10월 7일 코스닥 상장

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반도체 공정가스 공급 및 제어용 부품 전문기업 아스플로가 수요예측에 이어 일반청약에서도 흥행을 이어갔다.

아스플로는 지난 27일부터 28일까지 양일간 진행한 일반청약에서 2818대1의 경쟁률을 기록했다. 일반투자자 배정물량 총 18만1500주에 대해 5억1148만2720주 청약이 몰리면서 총 6조3935억원의 증거금이 모였다.

앞서 아스플로는 지난 16일부터 17일 국내외 기관투자자 대상으로 수요예측을 진행한 결과 최종 공모가를 희망밴드(1만9000원~2만2000원) 상단을 초과한 2만5000원에 확정한 바 있다.

반도체 공정가스 부품 개발사업을 영위하고 있는 아스플로는 자체 기술 개발을 통해 고청정 공정가스 부품 소재의 최초 국산화에 성공한 기업이다. 극청정 표면처리기술, 고정밀 가공기술, 나노 입자 여과기술 등 독자적 기술을 개발하는 동시에 반도체 공정가스와 관련된 ‘전 부품 일괄 생산 시스템’을 구축하며 성장해왔다.

향후 아스플로는 반도체 시공부품 포트폴리오 확대와 더불어 반도체 장비부품, 바이오 의약품 생산공정 부품, 수소산업 시장 진출 등 사업 다각화를 계획하고 있다. 이번 공모를 통해 확보한 자금은 시설투자와 운용에 사용될 예정이다.

강두홍 아스플로 대표이사는 “기업의 가치와 성장 가능성을 믿어 주신 투자자분들께 감사인사를 드린다”며 “지속적인 기술개발과 혁신으로 기대에 부합하는 회사가 될 것”이라고 전했다.

아스플로는 오는 30일 납입을 거쳐 10월 7일 코스닥 시장에 상장할 예정이다. 주관사는 미래에셋증권이다.

허지은 기자 hur@

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